A l’initiative du Groupe de Travail 3M (Méthodes de Métrologie en Microscopie) du RTmfm, une Action Nationale de Formation en Métrologie, intitulée “Contrôle qualité et diagnostic des systèmes d’imagerie photonique” se tiendra le 4 octobre (en distanciel) et du 24 au 26 octobre (en présentiel) à Rouen (76).

Les objectifs de cette ANF sont :

– S’approprier les outils, les organigrammes, les protocoles et les analyses de les mesures en métrologie/contrôle qualité
– Savoir préparer les échantillons de mesures
– Savoir réaliser les mesures et les analyses de métrologie en imagerie photonique
– Savoir interpréter les résultats d’analyses de mesures en imagerie photonique
– Optimiser le relationnel industriels/SAV
– Accroître la qualité des système en imagerie photonique